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产品描述
参数
超纯水电阻率≧15-18.25MΩ.cm@25℃达到国家电子行业标准,美国ASDTM标准。主要用于半导体材料、器件、集成电路、印刷电路板及太阳能光伏、单/多晶硅、蓝宝石等。
工艺流程:
一:絮凝+多介质+活性炭+保安+阳床+阴床+阳床+复床+UV185+254+抛光混床+微滤
二:絮凝+多介质+活性炭+阻垢+保安+单级反渗透+脱气超滤+CDI+UV185+254+抛光混床+微滤
三:絮凝+多介质+活性炭+阻垢+保安+一级反渗透+PH+二级反渗透+CDI+UV185+254+抛光混床+微滤
四:氧化剂+超滤系统+还原剂+阻垢+保安+单级反渗透+脱气超滤+CDI+UV185+254+抛光混床+微滤
五:氧化剂+超滤系统+还原剂+阻垢+保安+一级反渗透+PH+二级反渗透+CDI+UV185+254+抛光混床+微滤
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